產品資料
半導體超純水高耐久除氧器脫氣裝置
產品名稱: 半導體超純水高耐久除氧器脫氣裝置
產品型號: 8900型系列
產品特點: 半導體超純水高耐久除氧器脫氣裝置日本 Aquath 8900 型系列 —— 高耐久、高性能“隔膜式"除氧器（脫氣裝置）（適用鍋爐補給水、半導體超純水、食品工藝水等）一、工作原理中空纖維隔膜 + 真空抽吸并行水在隔膜內側流動，外側保持真空；O?、CO? 分壓差驅動氣體穿過膜壁被抽走，脫氣溫度可低至 10 ℃，無需熱力除氧的高溫蒸汽。內循環(huán)真空泵 + 噴射器組合，極限真空 ≤ 0.8 kP
半導體超純水高耐久除氧器脫氣裝置 的詳細介紹
半導體超純水高耐久除氧器脫氣裝置
半導體超純水高耐久除氧器脫氣裝置
日本 Aquath 8900 型系列 —— 高耐久、高性能“隔膜式"除氧器（脫氣裝置）
（適用鍋爐補給水、半導體超純水、食品工藝水等）
（適用鍋爐補給水、半導體超純水、食品工藝水等）
一、工作原理
- 中空纖維隔膜 + 真空抽吸并行
- 水在隔膜內側流動，外側保持真空；O?、CO? 分壓差驅動氣體穿過膜壁被抽走，脫氣溫度可低至 10 ℃，無需熱力除氧的高溫蒸汽。
- 內循環(huán)真空泵 + 噴射器組合，極限真空 ≤ 0.8 kPa；出口溶解氧 ≤ 5 μg L?1（5 ppb），CO? ≤ 0.1 mg L?1。
二、型號與性能（2025 產品手冊）
| 型號 | 處理水量 | 隔膜材質 | 出口 DO* | 外形 W×D×H | 自重 |
|---|---|---|---|---|---|
| 8905 | 0.5 m3 h?1 | PMP? | ≤ 5 ppb | 360×300×650 mm | 28 kg |
| 8910 | 1.0 m3 h?1 | PMP | ≤ 5 ppb | 420×350×750 mm | 38 kg |
| 8930 | 3.0 m3 h?1 | PVDF? | ≤ 3 ppb | 600×500×1100 mm | 75 kg |
| 8950 | 5.0 m3 h?1 | PVDF | ≤ 3 ppb | 700×600×1300 mm | 110 kg |
| *DO = 溶解氧；?PMP = 聚甲基戊烯高透氧中空纖維；?PVDF = 耐氧化、壽命更長。 |
三、高耐久設計
- 隔膜束可抽取式：10 萬小時設計壽命，現場 5 分鐘完成更換，無需拆管。
- 過流部全 316L + PTFE；密封圈全氟醚 (FFKM)，耐 80 ℃、20 % NaClO 清洗。
- 真空泵水循環(huán)冷卻，夏季連續(xù)運行泵頭溫度 < 40 ℃，保證潤滑油長壽命。
四、控制與節(jié)能
- PLC + 7 吋彩色觸控屏：實時顯示 DO、真空度、流量、壓差，支持 SD 卡數據記錄。
- 變頻真空控制：負荷波動時自動降低泵速，比定頻機型節(jié)電 15-25 %。
- 遠程接口：RS-485 (Modbus-RTU) + 4-20 mA 輸出，可接入 DCS/SCADA。
五、典型應用
① 半導體/面板超純水站終端脫氧，保護 UV 185 燈、混床樹脂
② 鍋爐補給水除氧，替代熱力除氧器，節(jié)能 > 30 %
③ 食品/制藥工藝水脫氧，抑制好氧菌滋生，延長保質期
④ 實驗室高純水系統(tǒng)進水前處理，保證 DO ≤ 1 ppb
① 半導體/面板超純水站終端脫氧，保護 UV 185 燈、混床樹脂
② 鍋爐補給水除氧，替代熱力除氧器，節(jié)能 > 30 %
③ 食品/制藥工藝水脫氧，抑制好氧菌滋生，延長保質期
④ 實驗室高純水系統(tǒng)進水前處理，保證 DO ≤ 1 ppb
六、交貨與文件
- 國內現貨：8905/8910 各 5 套；8930/8950 4-6 周
- 隨機提供：工廠 DO 測試報告、真空泵 CE 證書、隔膜更換操作視頻
- 質保：整機 1 年，中空纖維隔膜 3 年（按運行小時數折算）
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